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| 本实用新型公开了一种靶材位置可调整的溅射靶材基座，包括底座和支撑在底座上的用以固定靶材的靶材固定座，在所述底座上设置有用以安装工件的工件座，所述工件座至少部分地位于靶材固定座的正下方，其特征在于，所述靶材固定座通过升降组件支撑在底座上，所述升降组件包括可旋转地支撑在底座上且相对工件座对称设置的两螺纹杆，所述靶材固定座通过朝向底座的一端开口的筒形支架支撑在两螺纹杆上，在所述筒形支架的两侧对应两螺纹杆的位置处设置有移动块，在每个移动块上设置有与对应的螺纹杆螺纹配合的螺纹孔。该溅射靶材基座能够在镀膜过程中实时地根据需要调整靶材与工件之间的相对位置。 |
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